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頭孢氨芐膠囊研磨分散機

簡(jiǎn)要描述:

GMD2000頭孢氨芐膠囊研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

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頭孢氨芐膠囊研磨分散機

產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述:頭孢氨芐膠囊研磨分散機,頭孢氨芐膠囊膠體磨,頭孢氨芐膠囊高速研磨機,頭孢氨芐分散機,頭孢氨芐膠囊濕法粉碎機,德國膠體磨,醫藥研磨分散機

頭孢氨芐膠囊,適應癥為適用于敏感菌所致的急性扁桃體炎、咽峽炎、中耳炎、鼻竇炎、支氣管炎、肺炎等呼吸道感染、尿路感染及皮膚軟組織感染等。本品為口服制劑,不宜用于重癥感染。

1.藥理:頭孢氨芐屬*代頭孢菌素,抗菌譜與頭孢噻吩相仿,但其抗菌活性較后者為差。除腸球菌屬、甲氧西林耐藥葡萄球菌外,肺炎鏈球菌、溶血性鏈球菌、產(chǎn)或不產(chǎn)青霉素酶葡萄球菌的大部分菌株對本品敏感。本品對奈瑟菌屬有較好抗菌作用,但流感嗜血桿菌對本品的敏感性較差;本品對部分大腸埃希菌、奇異變形桿菌、沙門(mén)菌和志賀菌有一定抗菌作用。其余腸桿菌科細菌、不動(dòng)桿菌、銅綠假單胞菌、脆弱擬桿菌均對本品呈現耐藥。梭桿菌屬和韋容球菌一般對本品敏感,厭氧革蘭陽(yáng)性球菌對本品中度敏感。

2.毒理:頭孢氨芐的小鼠口服半數致死量為2600mg/kg。

本品為口服制劑  的要求根據分散相粒子大小及分散情況的不同,將液體藥劑分為溶液型、膠體溶液型、混懸液型、乳濁液型四類(lèi)。按應用方法,液體藥劑可分為內服、外用和注射三大類(lèi)。包括多種劑型,內服的如合劑、溶液劑等;外用的如洗劑、搽劑、含漱劑、滴鼻劑等等。

混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著(zhù)固液界面,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能,故處于不穩定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑,存在更大的穩定性問(wèn)題。這里主要討論混懸劑的物理穩定性問(wèn)題,以及提高穩定性的措施。 
  

(一)混懸微粒的沉降 
  
混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會(huì )自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律: 

  按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過(guò)程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實(shí)際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見(jiàn),混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比?;鞈椅⒘3两邓俣扔?,混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩定性就愈小。 
  為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是***有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)也增加混懸劑的粘度

GMD2000頭孢氨芐膠囊研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。

GMD2000系列是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇) 

(價(jià)格電議:葛    公司有樣機可供客戶(hù)實(shí)驗?。?/td>

 

適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標已達到國外同類(lèi)產(chǎn)品的水平。

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